| Pashjke | Дата: Среда, 16.07.2008, 10:01 | Сообщение # 1 |
|
Admin
Группа: Администраторы
Сообщений: 433
Статус: Offline
| 
В конце 90-х годов ученые считали, что глубокая ультрафиолетовая литография (deep-ultraviolet) исчерпает себя в 2003 году. Как мы знаем, этого не случилось. Существующие оптические методы позволяют дальнейшую миниатюризацию кремниевых микрочипов. Ученые из Массачусетского технологического института (Massachusetts Institute of Technology, MIT) представили миру 25-нанометровый техпроцесс на основе достаточно простой голографической литографии. В то же время производители работают над еще более сложным, 22-нанометровым техпроцессом – миниатюрные чипы на основе 22 нм уже показала IBM, кипит работа Intel на фабрике в штате Орегон, США. Однако гиганты индустрии думают в несколько иной плоскости. Техпроцесс от MIT подойдет для производства чипов памяти, солнечных ячеек для соответствующих аккумуляторов и так далее.
|
| |
| |
